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高纯钨靶材 高纯钨靶材供应

发布时间:2013-09-22

产品价格:900.00元/千克

产品类型:冠金利-W

产品规格:根据用户需要进行定制

产品总量:1200kg

信息描述

非对称脉冲溅射用钨靶材 厚5mm钨靶材 长期现货供应钨靶材 直径50.8mm钨靶材 钨靶材 低公差钨靶材 精车表面钨靶材 中频交流反应溅射用钨靶材 直径60mm钨靶材 圆片圆形钨靶材 离子束溅射用钨靶材 旋转钨靶材 平面钨靶材 直流溅射用钨靶材 非平衡磁控溅射用钨靶材 反应磁控溅射用钨靶材 高致密高均匀钨靶材 钨靶材99.95% 多弧钨靶材 钨靶材定做 进口钨靶材 高纯钨靶材 磁控溅射钨靶材 金属钨靶材 钨靶材 科研用钨靶材 钨靶材绑定焊接 离子镀溅射用钨靶材 实验室用钨靶材 物理性质 颜色 钢灰色 密度 19.35g/cm3 熔点 3407℃ 技术指标 纯度 99.95% 相对致密度 >99% 切面平整度 3.2Ra 公差 ±0.1mm 晶粒度 均匀 材质 冠金利-W 品牌 冠金利-钨 产地 北京市 产品规格 尺寸01:直径<360mm 厚度>1mm (圆片/圆台/圆棒) 尺寸02:长度<300mm 宽度<300mm 厚度>1mm 矩形/片材/台阶状(可拼接) 尺寸03:外直径<360mm 内直径>1mm 壁度>1mm 长度>1mm(管材/圆环/旋转靶材) 尺寸04::根据用户需要进行定制,来样加工,来图加工 **少起订量 1片,量大优惠 供货能力 同批次,同材质,持续可靠供应;100kg/月 交货期 单片材料1周内发货,批量材料15天-20天内发货(工作日) 制作工艺 真空磁悬浮熔炼 ,浇铸成锭,热机械处理和精密机械加工 适用仪器 各类型号磁控溅射设备等 产品用途 工业级镀膜,实验或研究级别用钨靶材,电子,光电,军用,装饰,功能薄膜等 产品优点 质量可靠,价格优惠 真空熔炼,提纯制备,纯度高,杂质少 轧制致密,氧化少,成型可塑 相对致密度高,晶粒均匀等轴,一致性高 产品附件 正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单/正规** 包装方式 真空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装 运输方式 国内快递承运(顺丰,申通,EMS,德邦)

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