高纯钽靶材 高纯钽靶材供应

射频溅射用钽靶材 直流溅射用钽靶材 离子镀溅射用钽靶材 钽靶材绑定焊接 多弧钽靶材 钽靶材定做 平面钽靶材 直径60mm钽靶材 中频交流反应溅射用钽靶材 非对称脉冲溅射用钽靶材 离子束溅射用钽靶材 非平衡磁控溅射用钽靶材 反应磁控溅射用钽靶材 厚5mm钽靶材 高致密高均匀钽靶材 直径50.8mm钽靶材 精车表面钽靶材 精车表面钽靶材 进口钽靶材 磁控溅射钽靶材 溅射钽靶材 实验用钽靶材 低公差钽靶材 钽 科研用钽靶材 金属钽靶材 高纯钽靶材 圆形钽靶材 钽靶材99.95% 物理性质 颜色 蓝灰色 密度 16.65g/cm3 熔点 2996℃ 技术指标 纯度 99.99% 相对致密度 >99% 切面平整度 3.2Ra 公差 ±0.1mm 晶粒度 均匀 材质 冠金利-Ta 品牌 冠金利-钽 产地 北京市 产品规格 尺寸01：直径<360mm 厚度>1mm （圆片/圆台/圆棒） 尺寸02：长度<300mm 宽度<300mm 厚度>1mm 矩形/片材/台阶状(可拼接） 尺寸03：外直径<360mm 内直径>1mm 壁度>1mm 长度>1mm（管材/圆环/旋转靶材） 尺寸04：:根据用户需要进行定制，来样加工，来图加工 **少起订量 1片，量大优惠 供货能力 同批次，同材质，持续可靠供应；100kg/月 交货期 单片材料1周内发货，批量材料15天-20天内发货（工作日） 制作工艺 真空磁悬浮熔炼 ，浇铸成锭，热机械处理和精密机械加工 适用仪器 各类型号磁控溅射设备等 产品用途 工业级镀膜，实验或研究级别用 钽靶材，电子，光电，军用，装饰，功能薄膜等 产品优点 质量可靠，价格优惠 真空熔炼，提纯制备，纯度高，杂质少 轧制致密，氧化少，成型可塑 相对致密度高，晶粒均匀等轴，一致性高 产品附件 正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单/正规** 包装方式 真空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装 运输方式 国内快递承运（顺丰，申通，EMS，德邦）